高溫PECVD系統(tǒng)

發(fā)布時間: 2023-08-24 16:11:42    瀏覽次數(shù):2766

設備簡介:

PECVD(等離子增強化學氣相沉積)技術是借助于等離子體的輝光放電使得含有薄膜組成的氣態(tài)物質發(fā)生化學反應,從而實現(xiàn)薄膜生長的一種制備技術,主要用于硅的氧化物或者氮化物的沉積;高溫爐采用的是高純硅碳棒加熱的原理,可以實現(xiàn)高溫燒結,適用于大多數(shù)材料的熱處理以及熔煉工藝,整體采用國際先進制造工藝,并且從美學藝術角度出發(fā),根據(jù)人體安全的角度進行設計。它采用PLC控制,觸摸屏操作。


產(chǎn)品詳情
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客戶使用案例



主要特點:

1、高溫燒結。

2、控制穩(wěn)定可靠,操作方便,安全防護措施完善。

3、采用先進的PID自學習模糊控制,控溫精度高,保持在±1℃。

4、爐襯采用高純氧化鋁輕質纖維材料,保溫效果更好,節(jié)能降耗。

5、具有物聯(lián)網(wǎng)功能(WIFI),可通過手機、電腦遠程對設備進行監(jiān)控,操作。

6、數(shù)據(jù)存儲功能,可保存燒結的重要參數(shù),時長達30天之久(每天開機8小時)。

7、配方功能,可預存配方20條以上。

8、聯(lián)網(wǎng)功能,通過RJ45接口,采用TCP/IP協(xié)議,可以讓系統(tǒng)與上位機相連(上位機需安裝相應軟件)。

型號

NBD-PECVD1500-80TID3ZY

供電電源

單相220V 50HZ

控溫精度

±1℃

觸摸屏尺寸

7"

射頻頻率

13.56MHz

射頻功率輸出范圍

0-500W

沉積加熱額定功率

3KW

傳感器類型

S 型φ8*180mm

沉積最高溫度

1500℃
沉積額定溫度

1450℃

推薦升溫速率

≤5℃/min

爐管材質及規(guī)格

剛玉Φ80*1200mm 外徑*長度(厚度)
沉積管徑

Φ80mm*1200mm

爐膛尺寸

單個溫區(qū)長175*高160*深140mm
PECVD外形尺寸

長1500×高1350×深830mm

氣氛條件

混合氣、真空等

滑動方式

電機驅動同步帶

電機轉速

3-4轉每分鐘

一轉行程

114mm

推拉最大行程

340mm 爐膛中心到線圈中心的距離
機械泵抽氣速率

5m3/h

爐腔極限真空度

3~5Pa

重量

約240KG

設備細節(jié)

流程控制畫面


控制系統(tǒng)


1、燒結工藝曲線設置:動態(tài)顯示設置曲線,設備燒結可預存多條工藝曲線,每條工藝曲線可自由設置;

2、可預約燒結,實現(xiàn)無人值守燒結工藝曲線燒結;

3、實時顯示燒結功率電壓等信息并記錄燒結數(shù)據(jù),并可導出實現(xiàn)無紙記錄;

4、具有實現(xiàn)遠程操控,實時觀測設備狀態(tài);

5、溫度校正:主控溫度和試樣溫度的差值,燒結全程進行非線性修正。

可選配

CRB升級型尾氣凈化器


本公司研制的NBD-B型外延爐尾氣凈化器,在結構上綜合采用了2個噴洗室和1個填料柱室,洗滌器所產(chǎn)生的負壓由人工手動控制,補水系統(tǒng)由人工根據(jù)工藝情況調(diào)節(jié)。水溶性氣體的清除率高達 99.99%。凈化效率最高、維護最方便,運行成本最低。
PECVD+CRB升級型尾氣凈化器應用

重量

約240KG

設備使用注意事項

1. 射頻匹配器一般處于自動匹配狀態(tài),一般功率需達到50W以上才能匹配;
2. 若采用手動匹配,將功率設到60W左右,手動調(diào)諧匹配合適時,再增加功率
3. 工作時,需改變腔體的氣流量,先要要把功率設置為零,不能直接按“OFF”按鍵關閉射頻輸出。

服務支持

一年有限保修,提供終身支持;

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