發(fā)布時(shí)間： 2025-08-29 19:57:16 瀏覽次數(shù)：26
此設(shè)備是將流化床技術(shù)與化學(xué)氣相沉積技術(shù)相結(jié)合的高級表面處理工藝，主要用于對大量細(xì)小顆粒材料進(jìn)行均勻涂覆。
其核心工作原理可以分為兩個(gè)部分來理解：流態(tài)化過程和化學(xué)氣相沉積過程。
流化床設(shè)備是實(shí)現(xiàn) “流化床技術(shù)與化學(xué)氣相沉積（CVD）技術(shù)結(jié)合” 的核心裝置，主要用于完成微小顆粒的高效、均勻表面涂覆，其結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)與工作流程圍繞 “流態(tài)化 - 氣相沉積” 雙核心過程展開
1、設(shè)備核心由反應(yīng)器主體、氣體供給系統(tǒng)、加熱控溫系統(tǒng)、氣固分離系統(tǒng)四部分組成：
2. 核心運(yùn)行邏輯 設(shè)備運(yùn)行遵循 “先流態(tài)化、后沉積” 的遞進(jìn)流程：
 | 設(shè)備核心特點(diǎn)： 均勻性：由于顆粒的劇烈運(yùn)動(dòng)，每個(gè)顆粒都能被均勻涂覆，批次一致性極好。 涂層致密：通常能獲得結(jié)構(gòu)致密、性能優(yōu)良的涂層。 適用性廣：可用于涂覆各種形狀不規(guī)則的小顆粒，如核燃料顆粒、石墨顆粒、陶瓷粉末等。 1. 裝料：將需要涂覆的基材顆粒通過進(jìn)料口裝入反應(yīng)室，落在氣體分布板上。 2. 密封與惰性環(huán)境置換：密封反應(yīng)器，抽真空并用惰性氣體置換多次，去除空氣和水分，防止前驅(qū)體氧化或發(fā)生危險(xiǎn)。 3. 加熱與流化：啟動(dòng)加熱系統(tǒng)，將反應(yīng)室升至預(yù)定反應(yīng)溫度。同時(shí)通入流化氣體，使床層進(jìn)入穩(wěn)定的流化狀態(tài)。 4. 沉積：向流化氣體中按比例引入反應(yīng)前驅(qū)體氣體，開始沉積過程。通過精密控制氣體流量、溫度、壓力和時(shí)間來控制涂層的厚度和質(zhì)量。 5. 冷卻與取料：沉積完成后，停止通入前驅(qū)體和加熱，繼續(xù)通入惰性流化氣體直至系統(tǒng)冷卻至安全溫度。停止通氣，取出涂覆好的顆粒產(chǎn)品。 | |
設(shè)備名稱 | FBCVD流化床管式爐 | |
規(guī)格型號 | OTF-1200XIII-VT-FB | |
供電電源 | 三相380V 50HZ | |
額定功率 | 9KW | |
加熱元件 | 合金電阻絲 | |
溫區(qū)數(shù)量 | 三溫區(qū) | |
傳感器類型 | K型熱電偶φ2*420mm | |
爐管材質(zhì)及尺寸 | 變徑石英管：φ50-φ80*1300*3側(cè)邊φ20 變徑石英砂芯管：φ20-φ40*450（200目砂芯） | |
Tmax | 1200℃ | |
額定溫度 | 1100℃ | |
推薦升溫速率 | ≤10℃/min | |
溫區(qū)尺寸長度 | φ150*（300+300+300）mm | |
四路質(zhì)量流量控制器 | 氫氣：S500 1000SCCM φ6.35雙卡套 ?2米空頭線 氟橡膠密封 氮?dú)鈽?biāo)定 氮?dú)猓?/span>S500 1000SCCM φ6.35雙卡套 ?2米空頭線 氟橡膠密封 氮?dú)鈽?biāo)定 一氧化碳：S500 2000SCCM φ6.35雙卡套 ?2米空頭線 氟橡膠密封 氮?dú)鈽?biāo)定 丙烯：S500 3SLM ?φ6.35雙卡套 2米空頭線 氟橡膠密封 氮?dú)鈽?biāo)定 | |
霧化儀 | 額定功率：55W（其中霧化器35W，蠕動(dòng)泵20W） 蠕動(dòng)泵最大流量：11-13ml/min 浮子流量計(jì)：0.3-3L/min 儲(chǔ)液罐最大容積：360ml 霧化顆粒度：5-10μm 霧化量：0.4ml/min(以純凈水介質(zhì)，最大功率時(shí)進(jìn)氣量為1L/min) | |
爐體尺寸 | 長1105*高2370*深650mm | |
控制系統(tǒng) |
| 1、燒結(jié)工藝曲線設(shè)置：動(dòng)態(tài)顯示設(shè)置曲線，設(shè)備燒結(jié)可預(yù)存多條工藝曲線，每條工藝曲線可自由設(shè)置； 2、可預(yù)約燒結(jié)，實(shí)現(xiàn)無人值守?zé)Y(jié)工藝曲線燒結(jié)； 3、實(shí)時(shí)顯示燒結(jié)功率電壓等信息并記錄燒結(jié)數(shù)據(jù)，并可導(dǎo)出實(shí)現(xiàn)無紙記錄； 4、具有實(shí)現(xiàn)遠(yuǎn)程操控，實(shí)時(shí)觀測設(shè)備狀態(tài)； 5、溫度校正：主控溫度和試樣溫度的差值，燒結(jié)全程進(jìn)行非線性修正。 |
溫度精度 | ±1℃ | |
加熱元件 |
| Mo摻雜的Fe-Cr-Al合金 |
壓力測量與監(jiān)控 |  | 采用機(jī)械壓力表，表外殼為氣密型結(jié)構(gòu)，能有效保護(hù)內(nèi)部機(jī)件免受環(huán)境影響和雜物侵入，同時(shí)具有較強(qiáng)的耐腐蝕和耐高溫的能力。 |
凈重 | 約240KG | |
設(shè)備使用注意事項(xiàng) | 1、設(shè)備爐膛溫度≥300℃時(shí)，禁止打開爐膛，避免受到傷害； 2、爐膛連續(xù)使用產(chǎn)生的輕微裂紋屬于正?，F(xiàn)象，不影響設(shè)備的正常使用； | |
服務(wù)支持 | 一年有限保修，提供終身支持（保修范圍內(nèi)不包括易耗部件，例如處理管和O形圈，請?jiān)谙旅娴南嚓P(guān)產(chǎn)品處訂購更換件。） | |
·?核工業(yè)：為核反應(yīng)堆的TRISO燃料顆粒?制備碳化硅（SiC）和熱解碳（PyC）包覆層，這是FBCVD最經(jīng)典和重要的應(yīng)用。該涂層是防止放射性物質(zhì)泄漏的關(guān)鍵屏障。
·?航空航天：為碳/碳復(fù)合材料的生產(chǎn)制備預(yù)制體，或在顆粒表面沉積抗氧化涂層（如SiC）。
·?電子與光伏：生產(chǎn)顆粒狀的 多晶硅 原料。
·?化工與冶金：制備高性能的催化劑載體、耐磨耐腐蝕的顆粒涂層等。
總而言之，F(xiàn)BCVD系統(tǒng)通過利用流化床技術(shù)使顆粒材料像流體一樣運(yùn)動(dòng)，從而為CVD化學(xué)反應(yīng)提供了一個(gè)具有超大表面積、溫度高度均勻的反應(yīng)環(huán)境，最終實(shí)現(xiàn)了對大量細(xì)小顆粒的高效、均勻包覆
工作臺展示圖1.png)